原子層堆積装置│昭和真空社製（ALDシリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
- 原子層堆積装置│昭和真空社製（ALDシリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
-
型式 ALDシリーズ メーカー ㈱昭和真空
- この製品についての
お問い合わせはこちら
製品説明
ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを操り返すことにより薄膜を形成します。
原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能で、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成することが可能となります。
複雑な形状の基板への成膜に最適です。
ガスバリア性に優れた薄膜が得られます。
対応膜種：ＳiO2 TiO2 Al2O3
【概要】
φ4インチ基板 25枚一括処理
基板回転機構
基板加熱：25～120℃
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています
※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値を引用
特徴
・単原子層ずつ成膜するため、膜厚制御性に優れています。
・高アスペクト比の基板に対しても付き回りよく成膜することが可能です。
・基板温度を抑え成膜することが可能です。
・基板面内分布に優れています。
主な用途
LED（色度調整、Ag硫化防止膜）
電子デバイス（絶縁膜、バリアメタル）
ガスバリア膜、水蒸気バリア膜
複雑な形状の基板への成膜
真空技術に関するご相談・お見積もりは
お気軽にご連絡ください。
フォームからお問い合わせ
デモンストレーション・サンプリングテスト、資料請求やその他のお問い合わせは、下記のリンクよりフォームをご入力頂くことでお問い合わせが可能です。
※3営業日以内に弊社担当者より返信させて頂きます。