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アトナープのASTONは、ガス測定に特化した四重極型質量分析装置です。

使い勝手や価格を重視し、機能を絞り込んだモデルと二種類のイオン源を搭載したハイエンドモデルを

取り揃えております。

目的やアプリケーションに応じて、電子イオン化（EI）イオン源を搭載した標準モデルと、

誘導結合プラズマ（ICP）イオン源を搭載したハイエンドモデルを選択して頂けます。

分析部を双極形電極にすることで、小型ながらイオンの透過率が向上し、SEMを搭載することにより、

弊社従来製品よりも高感度なデータを取得することができるようになりました。

ASTON は、半導体、産業機器、医薬品製造等のプロセスのリアルタイムモニタ用に開発され、

フットプリント、操作性、メンテナンス性、耐久性を重視して設計されています。

【用途】

エッチング、エンドポイントモニタ

天然ガス分析モニタ

チェンバ汚染モニタ

Lyophilization (Freeze-Drying)

ガス除害システムの残留ガス分析

セキュリティ、安全分野

環境モニタ

真空装置のリークモニタ

発酵プロセスモニタ

※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

ASTON Plasma-300 は、ガス測定に特化した四重極型質量分析装置です。

マスレンジをm/z285  まで拡張することにより、様々なアプリケーションに対応可能になりました。

Internet-of-Things (IoT) 対応のEthernet 通信、フィラメント交換が容易な電子イオン化（EI）

イオン源とフィラメント交換すら不要な誘導結合プラズマ（ICP）イオン源の両方を搭載しており、

使いやすさ、メンテンス性を重視した構成となっています。

半導体製造プロセス、工業製品製造プロセスのリアルタイムプロセスモニタとして使用いただけます。

ASTON Plasma-300 の内部には、EIおよびICPイオン化部、四重極質量分析部、検出部を

備えた小型四重極質量分析計が設置されています。

ドライポンプ（オプション）を含めた真空排気システムを内蔵しているため、圧力変化の影響を

受けにくく、安定した測定を行うことができます。

個々のガス成分は電子衝撃またはプラズマでイオン化された後、小型四重極質量フィルタによって

質量分離して二次電子増倍管で検出されます。