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ASTON Plasmaシリーズは、ガス測定に特化した四重極型質量分析装置です。

半導体製造プロセス、工業製品製造プロセスのリアルタイムプロセスモニタとして使用いただけます。

個々のガス成分は電子衝撃またはプラズマでイオン化された後、小型四重極質量フィルタによって質量分離、二次電子増倍管で検出されます。

分析部を双極形電極にすることにより、小型ながらイオンの透過率が向上しました。

また、SEMを搭載することにより高感度なデータを取得することが可能となりました。

【用途】

・エッチング、エンドポイントモニタ

・チェンバ汚染モニタ

・ガス除害システムの残留ガス分析

・環境モニタ

・発酵プロセスモニタ

・天然ガス分析モニタ

・Lyophilization（Freeze-Drying）

・セキリュティ、安全分野

・真空装置のリークモニタ

※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

マスレンジをm/z285まで拡張することにより、様々なアプリケーションに対応可能となりました。

Internet-of-Things（IoT）対応のEthernet通信、フィラメント交換が容易な電子イオン化（EI）イオン源と

フィラメント交換すら不要な誘導結合プラズマ（ICP）イオン源の両方を搭載しており

使いやすさ、メンテンス性を重視した構成となっています。

ASTON Plasma-300の内部には、EIおよびICPイオン化部、四重極質量分析部、検出部を備えた小型四重極質量分析計が搭載されています。

ドライポンプ※を含めた真空排気システムを内蔵しているため、圧力変化の影響を受けにくく、安定した測定を行うことが可能です。

（※ドライポンプはオプションです。）